- 產(chǎn)品說明
- 選配件
- 詳情咨詢
AJA 國際公司的 ATC-T 熱蒸發(fā)系統(tǒng)有圓柱形(超高真空型)和箱式(高真空型)裝置。這些系統(tǒng)性價比高且都采用的是高品質(zhì)零件。它們沿用了許多 ATC&ATC ORION 濺射系統(tǒng)的特點和通用部件,并且還能裝置 AJA 獨有的 300Amp 水冷熱蒸發(fā)源,克努森蒸發(fā)池,有機材料低溫蒸發(fā)池,和 Luxel Radak 蒸發(fā)源。此外,這些系統(tǒng)都能配置 AJA 磁控濺射靶,預(yù)真空室,QCM石英晶體微天平,加熱或冷卻樣品臺,行星齒輪,各種泵組和自動控制系統(tǒng)。
標準蒸發(fā)速率/膜均勻性數(shù)據(jù)
標準熱蒸發(fā)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)
ATC Orion 5-T
3 個 AJA 熱蒸發(fā)源,帶可加熱至 850°C 基片加熱器
ATC Orion 8-T
配置 3 個 Luxel Radak 爐,可加熱至 850°C 基片加熱器和渦輪分子泵預(yù)真空室
ATC 1800 T
可最多容納 4 個 Radak 爐和 4cm K&R 有柵離子源,用于預(yù)清洗和離子輔助熱沉積。蒸發(fā)源包含可控制共沉積的獨立 QCM 隔離管道和一個可加熱至 850°C的樣品臺。
ATC 2200-T UHV
多用途的超高真空系統(tǒng)能夠容納 6 個 Radak 沉積爐或滑動機制上的 5 槽直線型電子束蒸發(fā)源。另還有 6 個 QCM 測頭,帶隔離管道,以控制共沉積。有柵離子源和若干熱蒸發(fā)源可供選擇。
ATC 2030-T 箱式鍍膜機
熱箱式鍍膜機帶液氮基片冷卻,4 個 AJA300A 熱蒸發(fā)源和一個渦輪分子泵預(yù)真空室。