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AJA 國際公司的 ATC-T 熱蒸發(fā)系統(tǒng)有圓柱形（超高真空型）和箱式（高真空型）裝置。這些系統(tǒng)性價比高且都采用的是高品質(zhì)零件。它們沿用了許多 ATC&ATC ORION 濺射系統(tǒng)的特點和通用部件，并且還能裝置 AJA 獨有的 300Amp 水冷熱蒸發(fā)源，克努森蒸發(fā)池，有機材料低溫蒸發(fā)池，和 Luxel Radak 蒸發(fā)源。此外，這些系統(tǒng)都能配置 AJA 磁控濺射靶，預(yù)真空室，QCM石英晶體微天平，加熱或冷卻樣品臺，行星齒輪，各種泵組和自動控制系統(tǒng)。
標準蒸發(fā)速率/膜均勻性數(shù)據(jù)
標準熱蒸發(fā)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)
ATC Orion 5-T
3 個 AJA 熱蒸發(fā)源，帶可加熱至 850°C 基片加熱器
ATC Orion 8-T
配置 3 個 Luxel Radak 爐，可加熱至 850°C 基片加熱器和渦輪分子泵預(yù)真空室
ATC 1800 T
可最多容納 4 個 Radak 爐和 4cm K&R 有柵離子源，用于預(yù)清洗和離子輔助熱沉積。蒸發(fā)源包含可控制共沉積的獨立 QCM 隔離管道和一個可加熱至 850°C的樣品臺。
ATC 2200-T UHV
多用途的超高真空系統(tǒng)能夠容納 6 個 Radak 沉積爐或滑動機制上的 5 槽直線型電子束蒸發(fā)源。另還有 6 個 QCM 測頭，帶隔離管道，以控制共沉積。有柵離子源和若干熱蒸發(fā)源可供選擇。
ATC 2030-T 箱式鍍膜機
熱箱式鍍膜機帶液氮基片冷卻，4 個 AJA300A 熱蒸發(fā)源和一個渦輪分子泵預(yù)真空室。
