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光譜橢偏儀 Spectroscopic Ellipsometry

光譜橢偏儀SE800

  1. 產(chǎn)品說明
  2. 產(chǎn)品規(guī)格
  3. 詳情咨詢

光譜范圍:350 nm - 850 nm 

可選: 280 nm - 850 nm 

SE 800是采用快速二極管陣列探測器的高性能光譜橢偏儀,在紫外/可見光范圍內(nèi)兼具快速數(shù)據(jù)采集速度和全光譜范圍分辨率。 

光譜橢偏儀SE 800適用于復(fù)雜應(yīng)用,比如測量玻璃上的透明薄膜,發(fā)光體和半導(dǎo)體聚合物薄膜,吸收/透明基底上的多層膜,窗材料的減反射膜,先進的微電子應(yīng)用比如SOI,高k值和低k值材料。各向異性樣品和非均勻樣品也能夠被分析。

 

主要特點

步進掃描分析器工作方式,對較低光強也同樣有效

消色差補償器在整個0-360度范圍內(nèi)都可極準(zhǔn)確和精確地測量出橢偏角度。能夠分析偏振因數(shù)和補償退偏效應(yīng)

起偏器跟蹤技術(shù)可以為每一種應(yīng)用都提供最高的測量精度

自動對準(zhǔn)鏡用于樣品傾斜度調(diào)節(jié),顯微鏡用于樣品高度調(diào)節(jié),能夠提供最高的樣品對準(zhǔn)精度

高穩(wěn)定性的操作,所有硬件操作由其內(nèi)置的微控制器分別控制,基于Windows XP系統(tǒng)的最新型電腦

SpectraRay II – 功能強大的光譜橢偏儀軟件 

 

主要應(yīng)用 

測量單層膜或多層膜的厚度和折射率

在紫外-可見光波段測量材料的光學(xué)性質(zhì)

測量厚度梯度

測量膜表面和界面間的粗糙程度

確定材料成分

分析薄金屬膜

分析各向異性材料和薄膜

CER – 結(jié)合橢偏測量和反射測量

CET – 結(jié)合橢偏測量和透射測量 

 

紫外擴展選項 280 - 850 nm 

計算機控制角度計,40º-90º, 可選 20º-90º ,精度0.01º 

手動x-y載物臺,150 mm行程 

電機驅(qū)動x-y載物臺,行程50 mm - 200 mm 

MWAFER- SENTECH地貌圖掃描軟件 

透射測量樣品夾具 

攝象頭選項,用于樣品對準(zhǔn)和表面檢測 

液體膜測量單元 

反射式膜厚儀FTPadvanced, 光斑直徑80微米 

微細(xì)光斑選項,光斑直徑200微米,可選: 100微米 

自動對焦選項,結(jié)合地貌圖掃描選項 

SENTECH標(biāo)準(zhǔn)樣片 

附加許可,使SpectrRay II軟件可以用于多臺電腦 |

 

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